Oneindigheids Optische Omgekeerde Metallurgische Microscoop, Mechanische Stadiummicroscoop

MDS400 de omgekeerde Metallurgische Industriële Microscoop van Oneindigheidsdarkfield

(Regelbare) ooglens WF10×/22mm

Regelbare WF10×/22mm (, reticule 0.1mm)

De metallurgische LWD-Doelstellingen van het Oneindigheidsplan

LPL 5×/0.13 W.D=24.23mm

LPL 10×/0.25 W.D.= 18.48mm

LPL 20×/0.40 W.D.= 8.35mm

LPL 50×/0.70 (S) W.D.= 1.95MM

LPL 40×/0.65 W.D.= 3.90mm

LPL 80×/0.80 (S) W.D.= 0.85MM

LPL 100×/0.90 (S) W.D.= 1.00MM

De metallurgische LWD-Doelstellingen van het Oneindigheidsplan voor Helder & Donker Gebied

M PLAN 5×/0.13 BD W.D=24.23mm

M PLAN 10×/0.25 BD W.D.= 18.48MM

M PLAN 20×/0.40 BD W.D.= 8.35MM

M PLAN 50×/0.70 BD W.D.= 1.95MM

M PLAN 80×/0.80 BD W.D.= 0.85MM

Seidentopf Trinocular Hoofd Geneigde 30°, interpupilary afstand: 4876mm

Lichte distributie (allebei): 100: 0 (100% voor ooglens)

80:20 (80% voor trinocular hoofd, en 20% voor ooglens)

Nosepiece Vijfvoud

Quadplex (speciaal voor heldere /dark-gebiedsdoelstellingen)

Mechanisch Stadium Drie lagen, Stadiumgrootte: 210 mm×180mm, Bewegende waaier: 50×50mm, Schaal: 0.1mm

Coaxiale Ruwe en Fijne Concentrerende eenheids Ruwe slag:

10mm, Fijne slag per omwenteling: 0.2mm, fijne afdeling 2 μm.

Het polariseren van Eenheidspolarisator /Analyzer

Verlichtings12v/50w Halogeen (Inputvoltage: 100V~240V)

Filterblauw

Groen

Amber

Grijs

C-onderstel

1×C-onderstel

C-Onderstel 0.5× (regelbare Nadruk)